EDI超純水設(shè)備是以反滲透技術(shù)為基礎(chǔ)，結(jié)合中國(guó)水質(zhì)特點(diǎn)以及用戶需求水質(zhì)自主研發(fā)而成，三達(dá)EDI超純水設(shè)備產(chǎn)水水質(zhì)可達(dá)5~18.2MΩ的高脫鹽效果，系統(tǒng) EDI電去離子模塊是將電滲析和離子交換相互結(jié)合在一起的除鹽新工藝，取代傳統(tǒng)陰陽(yáng)樹(shù)脂混合離子交換除鹽工藝，與反滲透技術(shù)或拋光混床結(jié)合的聯(lián)合工藝的產(chǎn)水水質(zhì)可達(dá)5~18.2MΩ的高脫鹽效果

EDI超純水設(shè)備特點(diǎn)：
1、產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定，連續(xù)不間斷制水，不因再生而停機(jī)。 　　
2、無(wú)需化學(xué)藥劑再生，無(wú)酸堿儲(chǔ)備及運(yùn)輸費(fèi)用，操作簡(jiǎn)單、安全.

3、占地面積小，運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低。 　　

4、設(shè)備單元模塊化,可靈活的組合各種流量的凈水設(shè)施，全自動(dòng)運(yùn)行，無(wú)需專人看護(hù)。
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EDI超純水設(shè)備應(yīng)用范圍：火電廠化學(xué)用高純水制備；電子、半導(dǎo)體、精密機(jī)械、噴涂行業(yè)超純水制備； 制藥工業(yè)工藝用高純化水制備；精細(xì)化工、精尖學(xué)科用高超水制備；半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路清洗用水。

EDI作為制取超純水的設(shè)備，作為反滲透設(shè)備的二次除鹽設(shè)備，可以制取出高達(dá)10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業(yè)，半導(dǎo)體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補(bǔ)給水，以及其它應(yīng)用超純水。

EDI超純水設(shè)備與傳統(tǒng)離子交換工藝的優(yōu)越之處：
1、EDI不需要酸堿化學(xué)試劑用于再生
2、EDI具有體積小、結(jié)構(gòu)緊湊、拆卸方便
3、產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定
4、所需能源少
5、資金的使用經(jīng)濟(jì)——節(jié)約了運(yùn)行費(fèi)用，自動(dòng)化程度高