磁控濺射設備性能：

    濺射設備主體均為優質不銹鋼制造，耐腐蝕、抗污染、漏率小;設備電控部分采用了先進的檢測和控制系統，配置了較先進的PLC觸摸編程控制，為用戶做多層膜提供了良好的設備功能保證，且保證了設備各功能的穩定和方便操作。性能穩定、可靠；設備布局合理，提高了利用率和穩定性，減少了對環境的干擾；控制面板的設計考慮了美觀和適用的結合，使面板操作指示明確，觀察舒適、操作方便。

    主要技術參數:

1、3支￠100永磁靶（帶擋板）一支￠50永磁靶

2、一次可鍍￠100襯底樣品4塊，也可縮小

3、極限真空度：6×10-6 Pa

4、設備總漏放率：關機停泵12小時后，真空度優于10pa

5、襯底可調速自轉

6、襯底可加熱，室溫～350℃

7、恢復工作時間40分鐘，真空度可達6×10-4 Pa

    附注：磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用，產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區域內，并且在該區域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現了高的沉積速率。隨著碰撞次數的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠離靶表面，并在電場E的作用下**終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。

    磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經歷復雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯過程。在這種級聯過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。